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产品描述
我司可提供的砷化镓系列外延产品如下:
1. 霍尔元件材料-砷化镓外延片 (Hall Components – GaAs Epi Wafer):
砷化镓具有高频,高温,噪声小,低温性能好,抗辐射能力强等特点。因而,基于砷化镓材料制造的霍尔元件具有更高的稳定性和可靠性.
2. 异质结双极晶体管AlGaAs、InGaP/GaAs、InP/InGaAs外延片 (HBT AlGaAs, InGaP/GaAs, InP/InGaAs Epitaxial Wafer):
AlGaAs/GaAs异质结外延片具有良好的晶格匹配,容易实现微波与光电器件及其IC;
InP/InGaAs异质结外延片的晶格能匹配,其中InGaAs具有很高的电子迁移率;
InGaP/GaAs异质结外延片不易氧化,具有较大的价带不连续性和较小的导带不连续性,是RF电路设计的首选。
3. GaAs、InP基雪崩光电二极管外延片 (APD Epiatxial Wafer):
InGaAs/InP APD外延材料易于生长,具有高量子效率和低暗电流。因而与普通光电二极管相比,基于GaAs/InP外延结构的雪崩光电二极管具有灵敏度高,电流增益大以及频率响应快等特点。
4. 赝调制掺杂异质结场效应晶体管砷化镓外延片(pHEMT GaAs Epitaxy):
基于GaAs 外延材料的赝配高电子迁移率晶体管 ( PHEMT) 因其高电子迁移率、高电流调制效率、低损耗等优异性能,广泛应用于微波和毫米波等频段。
5. 635nm~2004nm激光GaAs外延片 (635nm~2004nm Laser Diode Epi Wafer):
GaAs基激光二极管外延片通过MOCVD反应器生长,用于光纤通信、工业应用、VCSEL、红外及光电探测器等各个领域
注:从2023年8月1日起,出口该系列产品需要出口许可证;国内供应不受影响