砷化镓外延GaAs Epi

作为领先的砷化镓外延晶圆公司,我司正在制造基于镓、铝、铟、砷和磷的各类 n 型硅掺 III-V 外延片。这些外延材料通过分子束外延法 (MBE) 或金属有机化合物化学气相沉积法 (MOCVD) 进行生长, 具有较低缺陷。我司可提供砷化镓外延定制服务以满足客户需求,请联系我们获取更多信息。

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产品描述

我司可提供的砷化镓系列外延产品如下:

 

 

1. 霍尔元件材料-砷化镓外延片 (Hall Components – GaAs Epi Wafer)

砷化镓具有高频,高温,噪声小,低温性能好,抗辐射能力强等特点。因而,基于砷化镓材料制造的霍尔元件具有更高的稳定性和可靠性.

 

2. 异质结双极晶体管AlGaAs、InGaP/GaAs、InP/InGaAs外延片 (HBT AlGaAs, InGaP/GaAs, InP/InGaAs Epitaxial Wafer)

AlGaAs/GaAs异质结外延片具有良好的晶格匹配,容易实现微波与光电器件及其IC;

InP/InGaAs异质结外延片的晶格能匹配,其中InGaAs具有很高的电子迁移率;

InGaP/GaAs异质结外延片不易氧化,具有较大的价带不连续性和较小的导带不连续性,是RF电路设计的首选。

 

3. GaAs、InP基雪崩光电二极管外延片 (APD Epiatxial Wafer)

InGaAs/InP APD外延材料易于生长,具有高量子效率和低暗电流。因而与普通光电二极管相比,基于GaAs/InP外延结构的雪崩光电二极管具有灵敏度高,电流增益大以及频率响应快等特点。

 

4. 赝调制掺杂异质结场效应晶体管砷化镓外延片(pHEMT GaAs Epitaxy)

基于GaAs 外延材料的赝配高电子迁移率晶体管 ( PHEMT) 因其高电子迁移率、高电流调制效率、低损耗等优异性能,广泛应用于微波和毫米波等频段。

 

5. 635nm~2004nm激光GaAs外延片 (635nm~2004nm Laser Diode Epi Wafer)

GaAs基激光二极管外延片通过MOCVD反应器生长,用于光纤通信、工业应用、VCSEL、红外及光电探测器等各个领域

 

注:从2023年8月1日起,出口该系列产品需要出口许可证;国内供应不受影响