氮化镓单晶片GaN
氮化镓(GaN)是二十世纪九十年代以来常用于发光二极管的二元III / V直接带隙半导体。该化合物是一种非常坚硬的材料,具有纤锌矿晶体结构。其3.4 eV的宽带隙为光电,高功率和高频器件的应用提供了特殊的性能。例如,GaN是使紫色(405nm)激光二极管成为可能的基板,而不使用非线性光学倍频。它对电离辐射的敏感性很低(与其他III族氮化物一样),使其成为卫星太阳能电池阵列的合适材料。由于设备在辐射环境中表现出稳定性,因此军事和太空应用也可能受益。由于GaN晶体管可以在更高的温度下工作,并且工作电压比砷化镓(GaAs)晶体管高得多,因此它们可以在微波频率下制造理想的功率放大器。此外,GaN为THz器件提供了有前景的特性。厦门中芯晶研可提供2”,3”,4”氮化镓单晶片和4“,6”氮化镓外延片
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产品描述
1. 氮化镓单晶片规格
2. 自支撑氮化镓晶片特性
晶格参数 | a=0.3189nm; c=0.5185nm |
带隙 | 3.39eV |
密度 | 6.15g/cm3 |
热膨胀系数 | a: 5.59×10-6/K; c: 3.17×10-6/K |
折射率 | 2.33-2.7 |
介电常数 | 9.5 |
热导率 | 1.3W/(cm*k) |
击穿电场 | 3.3MV/cm |
饱和漂移速度 | 2.5E7cm/s |
电子迁移率 | 1300cm2/(V*s) |
注:从2023年8月1日起,出口该产品需要出口许可证;国内供应不受影响