高纯锗(Ge)单晶应用在探测器中
高纯度锗单晶是检测MeV或更高范围内的光子(一直到硬X射线范围)的首选材料。锗探测器主要用于核物理中的伽马光谱,以及x射线光谱。锗可以具有几厘米的耗尽的敏感厚度,因此可以用作高达几MeV的伽马射线的全吸收探测器。这些探测器也称为高纯度锗(HPGe)探测器或超纯锗探测器。可供锗单晶材料用于制备探测器,列出如下参数以供参考:
1. 高纯度单晶锗材料参数
名称 | 高纯锗片 |
直径 | 6英寸 |
厚度 | 500±25um |
掺杂 | 低掺 |
晶向 | (100)/(111)+/-0.5° |
电阻率 | >30 ohm·cm |
TTV | <5um |
表面处理 | 双面抛光 |
2. 高纯锗作为探测器材料的重要性
自20世纪70年代以来,光子探测器(γ和X)一直由高纯度锗开发。高纯锗之所以能作为高分辨率γ和X射线探测器材料使用这么长时间,主要是因为它含有非常低浓度的电活性缺陷,可能低于109 cm-3。在化合物半导体中很难达到这样的价值。
此外,带隙是探测器中的一个重要参数,因为它与形成电子-空穴对所需的能量有关。与硅探测器相比,锗在辐射探测方面比硅高效得多,因为它的原子序数远高于硅,并且产生电子-空穴对所需的平均能量较低(见:表1)。由于其较高的原子序数,Ge具有更大的线性衰减系数,这导致较短的平均自由程。
由于半导体材料充当辐射吸收体,较高的原子序数和密度提高了伽马射线的检测效率。硅探测器的厚度不能超过几毫米。但是,高纯锗可以具有厘米的耗尽的敏感厚度,因此可以用作高达几MeV的伽马射线的全吸收探测器。
表1显示了Ge、Si与CdZnTe半导体探测器材料在室温下的带隙、平均电子-空穴对产生能量、密度和原子序数 | ||||
材料 | 带隙(@300K,eV) | 平均电子-空穴对产生能量(eV) | 密度(g/cm3) | 原子序数 |
Ge | 0.67 | 2.96 | 5.33 | 32 |
Si | 1.12 | 3.6 | 2.33 | 14 |
Cd0.9Zn0.1Te | 1.57 | 4.64 | 5.78 | 49.1 |
3. 高纯锗探测器的工作原理
高纯锗探测器须在非常低的液氮温度下工作,以实现最大效率,因为在室温下,热激发引起的噪声非常高。在反向偏压下,电场延伸穿过本征或耗尽区。当光子与探测器耗尽体积内的材料相互作用时,产生电荷载流子(空穴和电子),并被电场扫到P和N电极。该电荷与入射光子沉积在探测器中的能量成比例,由积分电荷敏感前置放大器转换为电压脉冲。
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